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[導讀] 在測量某些元素和某些類(lèi)型的合金時(shí),每種技術(shù)都有各自的優(yōu)勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數的元素如堿性(Li、Na等)和堿土金屬(Be、Mg、Si等);但是并不適合測量高原子序數的元素如耐火材料元素(Nb、Mo、 W等)。另一方面,HH-XRF適合于測量高原子序數的元素,但不適合測量低原子序數的元素如Mg、Al、Si;這使得HH-LIBS成為Mg、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術(shù)。
2015年10月1日,布魯克推出新的EOS 500手持激光誘導擊穿光譜儀(HH-LIBS)。EOS 500是專(zhuān)為L(cháng)i、Mg、Al 、Si輕元素合金的快速化學(xué)分析所設計。速度、精度和重復性等方面,EOS 500有著(zhù)自己的優(yōu)勢。與手持式X射線(xiàn)光譜儀相比,EOS 500的分析速度大約快10倍。
EOS 500適合于質(zhì)量控制(QA)、金屬加工和材料可靠性鑒定(PMI),是廢品回收相關(guān)行業(yè)對耐久性的要求。堅固的設計確保了EOS 500能夠承受在幾乎所有的環(huán)境下進(jìn)行現場(chǎng)操作,包括潮濕和灰塵的條件。此外,EOS 500有一個(gè)*的氣體光學(xué)護罩,在光學(xué)系統的前面創(chuàng )建了一個(gè)連續的氣體保護罩,防止灰塵積聚并允許EOS 500在zui嚴苛的環(huán)境中運作。
EOS 500使用專(zhuān)有的低背景激光消融原子發(fā)射光譜1064納米波長(cháng)激光。傳統LIBS系統一般利用高能、低頻激光等離子體發(fā)生器,導致高背景噪音、尤其是在頻譜的低端。布魯克專(zhuān)有的1064納米激光能夠產(chǎn)生強烈的原子發(fā)射信號,同時(shí)不會(huì )產(chǎn)生高背景噪音,因此不再需要復雜的澆注系統。利用這種*的設計,布魯克的 EOS 500可以很容易地在幾秒鐘內、分析< 0.1%濃度水平、具有挑戰性的元素,如Si、Mg。
多探頭的設計允許EOS 500覆蓋從170納米到720納米的較長(cháng)波長(cháng)范圍,同時(shí)在復雜的金屬鈦基體下,保持杰出的分辨率。這種較長(cháng)的波長(cháng)范圍允許檢測元素,如Li、Be、Cs等。此外,廣泛的波長(cháng)范圍還允許EOS 500選擇更加合適的波長(cháng)從而獲得更好的準確性。
“激光技術(shù)的進(jìn)步使LIBS的小型化和便攜性成為可能,如今我們已經(jīng)成功的在EOS 500上完成了商業(yè)化,"布魯克納米分析集團HMP業(yè)務(wù)部門(mén)總John Landefeld評論?!安剪斂搜杆偬峁┻@個(gè)新的手持系統給我們的客戶(hù),使他們能夠更快、更有經(jīng)濟效益的工作。在金屬行業(yè)中,作為手持式X射線(xiàn)光譜儀互補技術(shù)的LIBS分析占有重要的位置。"
在測量某些元素和某些類(lèi)型的合金時(shí),每種技術(shù)都有各自的優(yōu)勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數的元素如堿性(Li、Na等)和堿土金屬(Be、Mg、Si等);但是并不適合測量高原子序數的元素如耐火材料元素(Nb、Mo、 W等)。另一方面,HH-XRF適合于測量高原子序數的元素,但不適合測量低原子序數的元素如Mg、Al、Si;這使得HH-LIBS成為Mg、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術(shù),而HH-XRF是測量不銹鋼和高溫合金等的更優(yōu)技術(shù)。金屬行業(yè)的客戶(hù)現在可以根據具體有應用選擇的手持測量工具。
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